据至顶头条报道，英特尔表示已经完成全球首台商用High Numerical Aperture Extreme Ultraviolet光刻扫描仪的组装，据说是有史以来最先进的半导体制造设备，将比当前处理器更先进、更强大的未来几代计算机芯片铺平道路。TWINSCAN EXE: 5000 High NA EUV工具是由荷兰芯片制造设备制造商ASML Holding NV制造的，然后在英特尔位于美国俄勒冈州希尔斯伯勒的研发工厂进行组装，目前正在该工厂进行校准，一旦完成，将在推进Intel Foundry未来工艺路线图方面发挥关键作用。

该机器通过改变用于将打印图像投影到硅晶圆上的光学设计，极大地提高了下一代芯片的分辨率和功能扩展。

来源：至顶头条

编辑：牛小喀